![模拟电子系统设计指南(基础篇):从半导体、分立元件到TI集成电路的分析与实现](https://wfqqreader-1252317822.image.myqcloud.com/cover/808/47378808/b_47378808.jpg)
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2.5 结电流密度
在P区x=-xp的边缘处,从N区流到P区的电荷产生的电子电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_6.jpg?sign=1739398540-mxVBqAo24nTIUVQ3Zja7aETq4LMW04RK-0-ae2bf9df0a90b805cc2e86fbc6a2b816)
式中,Dn为少子电子的扩散密度;Ln为少子电子的扩散长度,其与 Dn及少子寿命 τno的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_7.jpg?sign=1739398540-s4mtoqHxQYmfXhJ7pDhMoewb1GjAy9st-0-5657c2f6aba3c9a397fcaa8e08116628)
少子寿命定义为P区少子电子与P区多子空穴进行复合的平均时间。同理,在N区x=xn的边缘处,从P区流到N区的电荷产生的空穴电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_8.jpg?sign=1739398540-4yKGmHyyzQcCc6N1UWRVR75ywgHVg8W7-0-a282d07b30b792efc3c65cd7d454fbf8)
Dp为少子空穴的扩散密度;Lp为少子空穴的扩散长度,其与Dp以及少子寿命τpo的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_9.jpg?sign=1739398540-UPk4IIiMgCnbaFGpKmw0mJe1arCZACR5-0-ac26126f851876eb5acbaf8786d4ed78)
因此,流过PN结的总电流密度为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_10.jpg?sign=1739398540-EVpWZDRykHjwKlU5HrwnS0ATnwGazx65-0-a54c4f160d955221e59b2f5c3bc29dc0)
将此式写成更通用的形式:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_1.jpg?sign=1739398540-8S6nXjWyxA2yS47JCKZsja5QFl9mT6KE-0-ea4921c1a4b90ec179774a89de552b1c)
式中,参数J s为反向饱和电流密度,取决于PN结的物理参数,表示为
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_2.jpg?sign=1739398540-nAcxXyW3V3jIewfNTgzYqFPuVCBk4Cpk-0-491bd73d8c179e7829acdbadfaf825e0)
式 (2.31) 即适用于正值 (正向偏置条件),也适用于负值 (反向偏置条件)。因此,二极管的电流等于电流密度JS与PN结横截面积Apn的乘积,表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_3.jpg?sign=1739398540-tOszMku5kYQ9m8nnuaDKanU6vbSq1e1s-0-3e20b50accee3cb5a0f157862fa18aa6)
式中,IS为反向饱和电流;vD为施加的电压;η为常数,其范围1~2,与实际二极管的制造工艺有关。式 (2.33) 描述了肖特基势垒结的特性。
注:vD >0 为正向偏置条件,vD <0 为反向偏置条件。